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中微公司申请喷淋头清洗剂及清洗方法专利有效地去除喷淋头电极气孔内的陶瓷沉积物同时去除使用过的电极表面的颗粒污染物、有机污染物半岛平台

时间:2024-06-07 14:18:48

  半岛官网金融界2024年6月7日消息,天眼查知识产权信息显示,中微半导体设备(上海)股份有限公司申请一项名为“一种喷淋头清洗剂及清洗方法“,公开号CN3.9,申请日期为2022年12月。

  专利摘要显示,一种喷淋头电极清洗剂,所述喷淋头电极清洗剂包含(a)弱酸或酸性氨基酸,(b)有机胺,(c)抗蚀剂。所述弱酸或酸性氨基酸可以有效地螯合喷淋头电极表面的金属离子污染物,所述有机胺缓冲所述清洗剂的pH值,同时起到辅助螯合剂的作用,所述抗蚀剂有效地保护喷淋头电极的铝或铝合金基材不被清洗剂腐蚀。本发明的喷淋头电极清洗剂能够在不腐蚀铝合金等基材的情况下,有效地去除喷淋头电极气孔内的陶瓷沉积物,同时去除使用过的喷淋头电极表面的颗粒污染物、有机污染物。

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