半岛官网金融界2024年8月24日消息，天眼查知识产权信息显示，上海新阳半导体材料股份有限公司取得一项名为“一种CoWP兼容性的半水基清洗液、其制备方法及应用“，授权公告号CN113430070B，申请日期为2020年3月。

　　专利摘要显示，本发明公开了一种CoWP兼容性的半水基清洗液、其制备方法及应用。本发明的半水基清洗液由下述原料制得，所述的原料包括以下质量分数的组分：5％‑70％的溶剂、0.5％‑20％的醇胺、0.1％‑20％的季铵碱、0.1％‑15％的缓蚀剂、0.1％‑10％的钝化剂、0.01％‑20％的螯合剂、0.1％‑10％的两性表面活性剂、0.1％‑10％的非离子型表面活性剂和余量的水，所述的质量分数为各组分质量占原料的总质量的百分比。本发明的半水基清洗液能适应CoWP等金属环境，对多种金属及电介质的缓蚀性强，清洗效果佳。